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CVD气相沉积系统

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硫化物CVD系统(一体式)

产品型号:H-CVD-1200S

产品品牌:翰军

接受定制:是

交货周期:5-15个工作日

上架时间: 2019-02-16 14:53:54

浏览次数: 1728次

一、概述

此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器,辅助固体源蒸发,后端为双温区硫化炉,

温度控制精确,操作简便。左端配有法兰支撑架固态蒸发器器和高温反应区一起滑动。右端可配气氛

微调装置,可以准确的反应腔体内部的气体压力,带刻度的调节阀对于做低压CVD非常实用,重复性好;

真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。整套系统可在1200℃以下的工艺温

稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。

二、设备组成

 HTF-1100蒸发器,HTF-1200D双温区管式炉(一体式)。

 三、主要技术参数

蒸发器

 

型号:HTF-1100

工作温度:室温-1000℃

最高温度:1050℃

最快升温速率:30℃/min

推荐升温速率:10℃/min

控温方式:智能化30段可编程控制

工作电压:AC220 V

额定功率:1000W

控温精度:±1℃

加热元件:电阻丝

加热区长度(mm):150mm 

双温区
硫化炉
 

型号:HTF-1200D

技术参数:

额定功率(KW):3

额定电压(V):AC220v  50/60 Hz

最高温度(℃):1200(1 hour)

持续工作温度(℃):1100

升温速率(℃/min):≤50

炉管尺寸(mm):

高纯石英管Φ50×1500mm

加热区长度(mm):150/300mm

恒温区长度(mm):100/120mm  

控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能

控温精度(℃):±1

加热元件:电阻丝

配件

配真空粉尘过滤器,DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力,防腐型数显真空计,三路混气系统(可选)